Gate valve device and method of manufacturing the same



(57)【要約】 【課題】 取り扱いが容易で、優れた性能を発揮し得る ゲートバルブ装置を提供する。 【解決手段】 アルミニウム等からなるバルブプレート 21と、フッ素系ゴム、好ましくはパーフロロゴムで成 形され、前記バルブプレート21に形成された無端のシ ールリング装着溝212を埋めるように設けられた基部 221、及び相手バルブシート面11aに密接可能なシ ール突条222を有するシールリング22とを備え、前 記シールリング装着溝212が、その内側面が溝底側で 溝幅方向へ開くように傾斜した蟻溝状をなす。シールリ ング22は、シールリング装着溝212を形成したバル ブプレート21を金型にセットし、フッ素系ゴム材料を シールリング装着溝212に充填して成形されたもので ある。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gate valve device easy to handle capable of achieving excellent performance. SOLUTION: This gate valve device is provided with a valve plate 21 formed of aluminum or the like, and a seal ring 22 comprising a base part 221 molded of fluororubber, or preferably perfluororubber, and provided to fill an endless seal ring installation groove 212 formed in the valve plate 21, and a seal protrusion streak 222 which can be tightly applied to a mating valve seat surface 11a. The seal ring installation groove 212 is a dovetail groove having an inner side surface inclined to be opened in the groove width direction on the groove bottom side. The seal ring 22 is molded by setting the valve plate 21 provided with the seal ring installation groove 212, and filling fluororubber material in the seal ring installation groove 212.




Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

Patent Citations (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle

NO-Patent Citations (0)


Cited By (12)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    CN-101963235-AFebruary 02, 2011重庆大学;重庆琨龙节能环保科技有限公司High-temperature dusty gas gate valve
    CN-101963235-BJanuary 11, 2012重庆大学, 重庆琨龙节能环保科技有限公司高温含尘烟气闸板阀
    DE-102008047355-A1April 15, 2010Weco Armaturen GmbhSchieberorgan
    JP-2005058978-AMarch 10, 2005Tadahiro Omi, 忠弘 大見減圧処理装置および蒸着装置
    JP-2006080364-AMarch 23, 2006Hitachi High-Technologies Corp, 株式会社日立ハイテクノロジーズVacuum treating apparatus
    JP-2007170666-AJuly 05, 2007Vat Holding Ag, ヴィ・エイ・ティー ホールディング アクチェンゲゼルシャフト振り子とスライドゲート真空バルブ
    JP-2012092880-AMay 17, 2012Maezawa Ind Inc, 前澤工業株式会社仕切弁
    JP-4588393-B2December 01, 2010株式会社日立ハイテクノロジーズ真空処理装置
    US-7322561-B2January 29, 2008Hitachi High-Technologies CorporationVacuum processing apparatus
    US-7641069-B2January 05, 2010Hitachi High-Technologies CorporationVacuum processing apparatus
    US-8286822-B2October 16, 2012Hitachi High-Technologies CorporationVacuum processing apparatus
    US-8740011-B2June 03, 2014Hitachi High-Technologies CorporationVacuum processing apparatus