Method for manufacturing high purity silica

高純度シリカの製造方法

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a high purity silica capable of producing a high purity silica particle at a low cost and a silica having the desired size and shape. SOLUTION: A pure silica is produced by severally vaporizing a high purity alkoxysilane and water, feeding the generated vapor into a reactor vessel, and making it hydrolyzed in a vapor phase.
(57)【要約】 【課題】高純度のシリカ粒子を低コストで製造し、ま た、所望のサイズ、形状のシリカを製造することが可能 な高純度シリカの製造方法を提供する。 【解決手段】高純度のアルコキシシランと水を別々に気 化させ、発生したバーパーを反応器に導き、気相で加水 分解反応させることにより、高純度シリカを製造する。

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    CN-103311511-ASeptember 18, 2013刘国钧Preparation method of nanometer silicon composite material with core-shell structure
    JP-2005314191-ANovember 10, 2005Mitsubishi Materials Polycrystalline Silicon Corp, 三菱マテリアルポリシリコン株式会社多結晶シリコンの製造方法
    JP-2009242238-AOctober 22, 2009Mitsubishi Materials Corp, 三菱マテリアル株式会社Method for producing polycrystalline silicon
    US-2012041170-A1February 16, 2012Hynek Benes, Jean-Francois Gerard, Ludovic ValetteReactive inorganic clusters
    US-8829143-B2September 09, 2014Dow Global Technologies LlcReactive inorganic clusters